据台湾“中央社 ”8月5日报道,台积电爆出工程师涉嫌盗取2纳米制程技术机密 ,台湾检方经调查后,向法院申请羁押禁见3名涉案人员获准 。由于台“科学及技术委员会”已将14纳米以下制程的IC制造技术纳入台湾核心关键技术清单,该委员会5日说 ,若窃取核心关键技术商业机密,依规将由检调侦办,并将加重刑责最高达12年有期徒刑、1亿元新台币罚金。
据报道 ,台“高等检察署”智财分署5日称,台积电前员工陈姓男子与在职员工吴姓男子(已被解职)等人涉嫌非法取得商业机密,7月间发动侦查行动 ,依违反“国安法 ”向法院申请羁押禁见陈姓男子等3人获准。
台积电5日称,经内部调查发现,有涉及商业机密泄露情况,已对涉事违规人员进行严厉惩处 ,“并采取相关法律行动” 。
台“科学及技术委员会”5日晚间进一步说明,如果为境外窃取台湾核心关键技术的商业机密,由检调侦办不法外流情形 ,并加重刑责最高达12年有期徒刑 、1亿元新台币罚金。
台湾《工商时报》称,由于本案发生于2纳米量产前的关键节点,业界普遍认为 ,这不只是单纯的内控违规,而是具明确目的性的商业间谍行为,恐对台积电技术优势等构成重大威胁。
报道称 ,此次事件波及台积电研发中心与新竹宝山Fab20厂区,涉案人员共9人,包括3名2纳米试产及6名研发支援部门工程师 。该案最初是台积电侦测到异常流量 ,发现部分员工在居家远程工作期间,违规连入内部研发系统,并通过手机或外部装置截取并转发机密技术资料。
供应链消息称,外泄资料流向一名任职于日系设备公司的工程师 ,该人曾为台积电系统整合部门前员工,与研发团队仍保持密切联系。由于该日系外商为台积电重要的设备供应商之一,此事引发其总部高度关注 ,已派出高层与法务人员紧急进驻台湾,与台积电法务单位对接,全面清查资料来源、目的与影响范围 。
有半导体业者分析 ,先进制程采用高度分工与模组化设计,单一站点资料难以复制整体制程,但若涉案者具备研发背景 ,并掌握2纳米合格率调校的关键参数与制程条件,就可能大幅缩短竞争对手的追赶时程,尤其对正积极发展2纳米的厂商而言 ,将成为重大突破口。
报道说,目前全球仅台积电、三星 、英特尔与Rapidus4家企业持续投入2纳米开发,预计台积电最快将于2025年下半年启动量产。该制程技术属典型“核心关键技术 ”,一旦外泄 ,将改变全球芯片制程竞争格局。
(文章来源:上游新闻)
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